परिचय: सेमीकंडक्टर विनिर्माण में सीएमपी द्रव हैंडलिंग चैलेंज

रासायनिक यांत्रिक Planarization (CMP) उन्नत अर्धचालक निर्माण में सबसे महत्वपूर्ण प्रक्रियाओं में से एक है।

सीएमपी प्रसंस्करण के दौरान, पॉलिशिंग स्लरी को लगातार प्राप्त करने के लिए वेफर सतह को वितरित किया जाता है:

• नैनोमीटर-स्तर सतह समतलता
• नियंत्रित सामग्री हटाने की दर
• बेहतर वेफर उपज
• स्थिर प्रक्रिया प्रदर्शन

घोल वितरण प्रणाली सीधे सीएमपी प्रक्रिया की गुणवत्ता को प्रभावित करती है।

द्रव-संपर्क घटकों से कोई भी संदूषण स्रोत प्रभावित हो सकता है:

• वेफर सतह दोष
• कण उत्पादन
• धातु आयन संदूषण
• प्रक्रिया स्थिरता
• डिवाइस की विश्वसनीयता

इसलिए, अर्धचालक उपकरण निर्माताओं को उत्कृष्ट रासायनिक संगतता के साथ उच्च शुद्धता वाले तरल नियंत्रण घटकों की आवश्यकता होती है।

ग्राहक अनुप्रयोग पृष्ठभूमि

ग्राहक प्रोफ़ाइल

ग्राहक निम्नलिखित में माहिर हैं:

• सेमीकंडक्टर सीएमपी पॉलिशिंग उपकरण
• CMP प्रक्रिया समाधान
• वेफर सतह प्लानराइजेशन सिस्टम

उनके उपकरण का उपयोग चिप विनिर्माण प्रक्रियाओं के दौरान किया जाता है जहां सटीक घोल वितरण आवश्यक है।

आवेदन

सीएमपी पॉलिशिंग स्लरी परिवहन प्रणाली

मध्यम

रासायनिक चमकाने घोल

मुख्य आवश्यकताएं

ग्राहक के साथ तरल हैंडलिंग घटकों की आवश्यकता होती है:

कम धातु आयन वर्षा

सामग्री को कम करना चाहिए:

• धातुई संदूषण
• आयनिक रिलीज
• रासायनिक दोष

रासायनिक प्रतिरोध

CMP घोल हो सकता है:

• घर्षण कण
• ऑक्सिडाइज़र
• रासायनिक योजक

गीला सामग्री लंबे समय तक संपर्क के दौरान स्थिरता बनाए रखना चाहिए।

उच्च शुद्धता प्रदर्शन

सिस्टम की आवश्यकता है:

• कम निष्कर्ष
• स्वच्छ द्रव पथमार्ग
• स्थिर सामग्री गुण

इंजीनियरिंग मूल्यांकन

क्यों सामग्री चयन CMP सिस्टम में क्रिटिकल है

पारंपरिक धातु घटकों के कारण संदूषण जोखिम लागू हो सकता है:

• धातु आयन रिलीज
• जंग
• रसायनों के साथ भूतल संपर्क

उन्नत अर्धचालक विनिर्माण के लिए, यहां तक कि ट्रेस संदूषण वेफर गुणवत्ता को प्रभावित कर सकता है।

इसलिए, फ्लोरोपॉलिमर सामग्री को व्यापक रूप से उच्च शुद्धता रासायनिक वितरण प्रणाली के लिए माना जाता है।

अनुशंसित समाधान

CJAN उच्च शुद्धता PFA द्रव हैंडलिंग सिस्टम

आवेदन आवश्यकताओं के आधार पर, CJAN ने सिफारिश की:

उच्च शुद्धता PFA प्लग वाल्व

उत्पाद:

To make a way.

साथ मिलकर:

• उच्च शुद्धता PFA ट्यूबिंग
• PFA फिटिंग
• फ्लोरोप्लास्टिक तरल पदार्थ

CMP अनुप्रयोगों के लिए PFA घटक क्यों चुनें?

1 उत्कृष्ट रासायनिक प्रतिरोध

पीएफए कई आक्रामक रसायनों के लिए उत्कृष्ट प्रतिरोध प्रदान करता है।

लाभ:

• स्थिर रासायनिक प्रदर्शन
• कम जंग जोखिम
• लंबे समय तक सेवा जीवन
• अर्धचालक वातावरण की मांग के लिए उपयुक्त

2 कम धातु आयन Contamination जोखिम

धातु द्रव घटकों की तुलना में, पीएफए संभावित संदूषण स्रोतों को कम करता है।

लाभ:

• कम धातु आयन रिलीज
• बेहतर घोल शुद्धता
• बेहतर प्रक्रिया स्थिरता

3 उच्च शुद्धता द्रव पथ

सेमीकंडक्टर प्रक्रियाओं को साफ तरल वितरण की आवश्यकता होती है।

पीएफए घटक प्रदान करते हैं:

• चिकनी आंतरिक सतह
• कम कण उत्पादन
• उत्कृष्ट सफाई
• स्थिर द्रव संपर्क प्रदर्शन

4 विश्वसनीय वाल्व नियंत्रण

PFA प्लग वाल्व प्रदान करता है:

• सरल प्रवाह नियंत्रण
• कॉम्पैक्ट संरचना
• रासायनिक प्रतिरोध
• अर्धचालक-संगत सामग्री प्रदर्शन

के लिए उपयुक्त:

• सीएमपी स्लरी सिस्टम
• रासायनिक वितरण उपकरण
• सेमीकंडक्टर गीले प्रक्रियाएं

आवेदन मूल्य

CJAN PFA द्रव हैंडलिंग घटकों को अपनाने के बाद, अर्धचालक उपकरण निर्माताओं को प्राप्त कर सकते हैं:

इंजीनियरिंग सिफारिश

CMP पॉलिशिंग उपकरण के लिए, तरल संपर्क सामग्री का चयन न केवल दबाव और तापमान पर विचार करना चाहिए।

गंभीर कारकों में शामिल हैं:

• रासायनिक संगतता
• सामग्री शुद्धता
• आयन संदूषण नियंत्रण
• कण उत्पादन
• दीर्घकालिक विश्वसनीयता

अर्धचालक CMP घोल वितरण प्रणाली के लिए उच्च शुद्धता प्रदर्शन की आवश्यकता होती है, CJAN PFA ट्यूबिंग, फिटिंग और PFA प्लग वाल्व उन्नत वेफर विनिर्माण उपकरण के लिए विश्वसनीय फ्लोरोपॉलिमर समाधान प्रदान करते हैं।